8palcový silikonový plátek typu P/N (100) 1–100Ω fiktivní regenerační substrát

Stručný popis:

Velké zásoby oboustranně leštěných waferů, všechny wafery od 50 do 400 mm v průměru Pokud vaše specifikace není k dispozici v našem inventáři, navázali jsme dlouhodobé vztahy s mnoha dodavateli, kteří jsou schopni vyrobit wafery na zakázku tak, aby vyhovovaly jakékoli jedinečné specifikaci.Oboustranně leštěné destičky lze použít pro křemík, sklo a další materiály běžně používané v polovodičovém průmyslu.

Pošlete nám e-mail

Detail produktu

Štítky produktu

Představení krabičky na oplatky

8palcový křemíkový plátek je běžně používaný křemíkový substrátový materiál a je široce používán ve výrobním procesu integrovaných obvodů.Takové křemíkové destičky se běžně používají k výrobě různých typů integrovaných obvodů, včetně mikroprocesorů, paměťových čipů, senzorů a dalších elektronických zařízení.8palcové křemíkové wafery se běžně používají k výrobě čipů relativně velkých velikostí, s výhodami včetně větší plochy povrchu a schopnosti vyrobit více čipů na jednom křemíkovém waferu, což vede ke zvýšení efektivity výroby.8palcový křemíkový plátek má také dobré mechanické a chemické vlastnosti, což je vhodné pro velkosériovou výrobu integrovaných obvodů.

Vlastnosti produktu

8" typ P/N, leštěný silikonový plátek (25 ks)

Orientace: 200

Odpor: 0,1 - 40 ohm•cm (může se lišit od šarže k šarži)

Tloušťka: 725+/-20um

Základní/Monitorovací/Testovací stupeň

VLASTNOSTI MATERIÁLU

Parametr	Charakteristický
Typ/Dopant	P, Bor N, Fosfor N, Antimon N, Arsen
Orientace	<100>, <111> orientace řezů podle specifikace zákazníka
Obsah kyslíku	10¹⁹ppmA Vlastní tolerance podle specifikace zákazníka
Obsah uhlíku	< 0,6 ppmA

MECHANICKÉ VLASTNOSTI

Parametr	primární	Monitor/Test A	Test
Průměr	200±0,2 mm	200 ± 0,2 mm	200 ± 0,5 mm
Tloušťka	725±20µm (standardní)	725±25µm (standardní) 450±25µm 625±25um 1000 ± 25 um 1300 ± 25 um 1500±25 um	725±50µm (standardní)
TTV	< 5 um	< 10 um	< 15 um
Luk	< 30 um	< 30 um	< 50 um
Zabalit	< 30 um	< 30 um	< 50 um
Zaoblení hran	SEMI-STD
Označení	Primární pouze SEMI-Ploché, SEMI-STD Flat Jeida Flat, Notch

Parametr	primární	Monitor/Test A	Test
Kritéria přední strany
Stav povrchu	Chemicky mechanicky leštěné	Chemicky mechanicky leštěné	Chemicky mechanicky leštěné
Drsnost povrchu	< 2 A°	< 2 A°	< 2 A°
Kontaminace Částice @ >0,3 um	= 20	= 20	= 30
Haze, Pits pomerančová slupka	Žádný	Žádný	Žádný
Viděl, Marks Pruhování	Žádný	Žádný	Žádný
Kritéria zadní strany
Praskliny, vrány, stopy po pile, skvrny	Žádný	Žádný	Žádný
Stav povrchu	Leptané žíravinou